光蚀刻设备
下个世代先端process开发用，能形成微细的pattern，在PhotoMask制造中用的Etching设备。
特长
- NIL・EUVMask・光Mask、等各个种类都可对应
- 最大可搭载4个Chamber，可灵活的对应各种制造工艺
- 采用独立的Plasma源，可达到最高端Mask所需要的的CDU性能
- 能提供减少10nm大小的defect的技术提案。
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光蚀刻设备
Advanced Reticle Etching System